挑戰：
表面的一致性
在拋光中，重複性非常重要。半導體 CMP 必須具有超純度、精確尺寸、化學相容性和高度一致性。這些特性會直接影響先進晶圓製造的表面品質、良率和工具正常運作時間。
我們如何提供協助：
高純度氧化鋁可達到最佳表面效能
我們製造專為拋光系統設計的氧化鋁格式，從氧化鋁拋光泥漿到光學和陶瓷精加工。PolarGuard™ 氧化鋁符合 4N 和 5N 純度標準，可將可能影響元件效能的鐵 (Fe)、鈉 (Na) 和矽 (Si) 等金屬雜質降至最低。這可防止離子污染，並支援對 10 奈米以下節點極為重要的無缺陷表面。
此外，我們還與客戶合作，量身打造表面特性（例如電荷、分散性、官能化），以確保與特定的漿料化學相容，幫助優化選擇性和平面性。
PolarGuard 採用精簡、低排放、高一致性的製程生產，並具備完整的可追蹤性。每一批產品都經過測試和驗證，並附有詳細的規格和 COA，以支援快速的晶圓廠驗證。
此外，我們與客戶合作，量身訂做表面特性 (例如電荷、分散性、官能化)，以確保與特定漿料化學的相容性，協助最佳化選擇性與平面性。
PolarGuard 採用精簡、低排放、高一致性的製程生產，並具備完整的可追蹤性。每一批產品都經過測試和驗證，並附有詳細的規格和 COA，以支援快速的晶圓廠驗證。
為性能而設計。為目的而命名。
我們所有的材料都是 PUREGuard™ 產品組合的一部分 - 我們承諾提供高純度、高完整性的氧化鋁，專為關鍵應用而設計。在這個平台上，我們開發了以應用為導向的產品系列，讓您可以輕鬆地將合適的材料與製程相匹配。
用於拋光研磨介質或研磨墊的氧化鋁。此外，我們也提供珠狀、粒狀以及可客製化的產品。如果您找不到所需的產品，我們可以依您的需求提供客製化解決方案。
用於拋光研磨介質或研磨墊的氧化鋁。此外，我們也提供珠狀、粒狀以及可客製化的產品。如果您找不到所需的產品，我們可以依您的需求提供客製化解決方案。
至純至精，品質卓傚
POLARGuard™ 產品深受需要穩定、高效能氧化鋁以符合拋光規格的客戶信賴。
清潔表面的結果
次微米顆粒可減少刮傷、改善表面處理
緊湊的 PSD
每批產品都經過尺寸和均勻性測試
完整文件
您將獲得具有大小、純度和方法的記錄
我們保護的流程
我們提供專門用於化學機械拋光和先進表面處理的高純度氧化鋁。
常見問題
答：在化學機械拋光製程中，高純度氧化鋁可確保一致的去除率，並將表面缺陷降至最低。它的低污染水平和可控制的粒度有助於保持晶圓間的均勻性，並減少精密應用中的變異性。
答：我們的粉末可用於化學機械拋光 (CMP)、精密光學拋光，以及其他需要低缺陷、高均勻度結果的先進表面精加工應用。
答：我們提供次微米範圍的緊密粒度分佈，以確保光滑的表面和減少刮傷。我們可以開發客製化的 PSD，以符合特定的漿料或襯墊條件。
答：是的。我們的材料是針對低金屬雜質含量而設計，以避免表面損傷並維持均勻的移除率，這對半導體的使用非常重要。
答：絕對可以。我們與客戶合作，調整純度、粒度和分佈規格，以支援他們確切的 CMP 或表面處理條件。
答：我們主要提供用於拋光的粉末格式，針對漿料分散和穩定的性能進行了優化。每批產品均提供技術文件。