在先進的半導體製造廠中,不容有絲毫差錯。單一顆微粒的瑕疵就可能使晶片價值降低 70% 或更多。特別是隨著節點縮小、公差收緊,材料必須符合絕不妥協的潔淨度和一致性標準。從 CMP 到 ALD,氧化鋁的超高纯度不僅重要,而且具有決定性。
PUREGuard™ 是超高純氧化鋁的基準。以 5N (99.999%) 純度製造,以亞微米尺度設計,提供當今最先進半導體製程所需的潔淨度、控制和可靠性。無論您是要拋光晶圓、絕緣結構或鋪設原子層,PUREGuard™ 都能確保每顆微粒都能發揮功效。無填充物。沒有捷徑。只有精英級氧化鋁,讓製造廠無法妥協。
PUREGuard™ 粉末採用高產量、精益生產製程生產。這意味著更少的步驟、更嚴格的控制和更低的排放,而不會影響品質。 在 CMP 和 ALD 應用中,我們的粉末可將污染風險降至最低,並支援規模一致的結果。我們的粉末採用 ISO9001:2015 認證製程生產,具有完整的可追蹤性,可滿足高效能晶圓廠的需求。
PUREGuard™ 採用 ISO 9001:2015 認證製程,提供 99.999% 的 Al₂O₃ 純度。其製造目的在於降低污染風險,並確保高敏感度半導體製程(如 CMP 和 ALD)的一致結果。
我們的 PUREGuard™ 超高純氧化鋁支援先進陶瓷、後端晶片封裝和熱鍍膜應用的關鍵性能。客戶使用 PUREGuard™ 製造半導體和工業系統中的絕緣體、墊片、熱介面材料和保護塗層。
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