O desafio:
Consistência na superfície e em sua composição
No polimento, a repetibilidade é fundamental. O CMP para semicondutores deve ser ultrapuro, ter dimensões precisas, ser quimicamente compatível e apresentar alta consistência. Essas propriedades afetam diretamente a qualidade da superfície, o rendimento e o tempo de operação das máquinas na fabricação avançada de wafers.
Como ajudamos:
Alúmina de alta pureza para um desempenho ideal da superfície
Fabricamos formatos de alumina projetados para sistemas de polimento, desde pastas de polimento de alumina até acabamento óptico e cerâmico. A alumina PolarGuard™ atende aos padrões de pureza 4N e 5N, minimizando contaminantes metálicos como Fe, Na e Si, que podem comprometer o desempenho dos dispositivos. Isso protege contra a contaminação iônica e contribui para superfícies sem defeitos, o que é fundamental em nós abaixo de 10 nm.
Além disso, trabalhamos com os clientes para personalizar as características da superfície (por exemplo, carga, dispersibilidade, funcionalização) a fim de garantir a compatibilidade com composições químicas específicas das pastas, ajudando a otimizar a seletividade e a planaridade.
A PolarGuard é fabricada por meio de um processo enxuto, de baixa emissão e alta consistência, com rastreabilidade total. Cada lote é testado, qualificado e acompanhado de especificações detalhadas e certificados de análise (COAs) para facilitar a rápida qualificação na fábrica.
Além disso, trabalhamos com os clientes para personalizar as características da superfície (por exemplo, carga, dispersibilidade, funcionalização) a fim de garantir a compatibilidade com composições químicas específicas de pastas, ajudando a otimizar a seletividade e a planicidade.
O PolarGuard é fabricado por meio de um processo enxuto, de baixa emissão e alta consistência, com total rastreabilidade. Cada lote é testado, qualificado e acompanhado de especificações detalhadas e certificados de análise (COAs) para facilitar a rápida qualificação na fábrica.
Projetado para oferecer desempenho. Nomeado de acordo com sua finalidade.
Todos os nossos materiais fazem parte do portfólio PUREGuard™ — nossa promessa de alumina de alta pureza e alta integridade, projetada para aplicações críticas. Dentro dessa plataforma, desenvolvemos famílias de produtos voltadas para aplicações específicas, que facilitam a escolha do material certo para o seu processo.
Alúmina para meios de polimento ou almofadas abrasivas. Também disponível em esferas, pellets e formatos personalizáveis. Caso não encontre o que precisa, podemos criar uma solução personalizada mediante solicitação.
Alúmina para meios de polimento ou almofadas abrasivas. Também disponível em esferas, pellets e formatos personalizáveis. Caso não encontre o que precisa, podemos criar uma solução personalizada mediante solicitação.
Precisão absoluta. Desempenho comprovado.
Os produtos POLARGuard™ contam com a confiança de clientes que precisam de alumina de alta qualidade e desempenho consistente para atender às especificações de polimento.
Resultados de limpeza de superfícies
Partículas submicrônicas que reduzem os arranhões e melhoram o acabamento
PSDs restritos
Cada lote é submetido a testes de calibragem e uniformidade
Documentação completa
Você receberá registros com informações sobre tamanhos, pureza e métodos
Os processos que protegemos
Fornecemos alumina de alta pureza, especialmente desenvolvida para polimento químico-mecânico e acabamento avançado de superfícies.
Polimento Químico-Mecânico para Semicondutores
Proporciona planaridade e desempenho no processo de polimento químico-mecânico utilizado em pastilhas semicondutoras
Preparação de superfícies de materiais avançados
Para cerâmicas, metais ou compósitos que exigem acabamento fino
Nosso processo, sua vantagem
Testamos o tamanho, a forma e o desempenho da superfície e, em seguida, comprovamos tudo com dados. O resultado: acabamentos mais uniformes e menos surpresas.
Perguntas frequentes
R: No processo de polimento químico-mecânico, a alumina de alta pureza garante taxas de remoção consistentes e minimiza os defeitos superficiais. Seus baixos níveis de contaminação e o tamanho controlado das partículas ajudam a manter a uniformidade entre as pastilhas e a reduzir a variabilidade em aplicações de precisão.
R: Nossos pós são utilizados no polimento químico-mecânico (CMP), no polimento óptico de precisão e em outras aplicações avançadas de acabamento de superfícies que exigem resultados com baixo índice de defeitos e alta uniformidade.
R: Oferecemos distribuições granulométricas (PSD) bem restritas na faixa submicrométrica para garantir acabamentos lisos e reduzir o risco de arranhões. É possível desenvolver PSDs personalizadas para se adequarem às condições específicas da pasta ou da almofada.
R: Sim. Nossos materiais são projetados para apresentar baixos níveis de impurezas metálicas, a fim de evitar danos à superfície e manter taxas de remoção uniformes, o que é fundamental no uso em semicondutores.
R: Com certeza. Trabalhamos em conjunto com os clientes para definir as especificações de pureza, tamanho das partículas e distribuição, de modo a atender às suas condições específicas de CMP ou preparação de superfícies.
R: Oferecemos principalmente formatos em pó para polimento, otimizados para a dispersão da pasta e para um desempenho estável. A documentação técnica é fornecida com cada lote.